十年。
一臺(tái)光刻機(jī)的壽命也不僅僅在于一兩代芯片，如果用193nm深紫外光刻機(jī)也是可以做到10nm乃至7nm芯片的生產(chǎn)的，只是工藝難度實(shí)現(xiàn)起來(lái)相對(duì)復(fù)雜，成本較高，比如采用自對(duì)準(zhǔn)四次成型技術(shù)，就可以得到更加致密的結(jié)構(gòu)，不過(guò)因?yàn)樾酒瑢蛹?jí)的工藝變得復(fù)雜，需要更多掩模版和材料，所以用193nm光刻機(jī)生產(chǎn)7nm芯片非常不劃算，所以到了這個(gè)程度必須上EUV光刻機(jī)。
光刻機(jī)作為芯片的核心制造設(shè)備，也是當(dāng)前最復(fù)雜的精密儀器之一。其實(shí)光刻機(jī)不僅可以用于芯片生產(chǎn)，還可以用于封裝和用于LED制造領(lǐng)域。
目前我國(guó)高端的光刻機(jī)主要是從國(guó)外進(jìn)口的，而且一臺(tái)光刻機(jī)價(jià)值不菲，甚至高達(dá)上億美元。
關(guān)于光刻機(jī)的壽命網(wǎng)上也沒(méi)有具體的相關(guān)資料說(shuō)明，所以暫時(shí)無(wú)法知曉。
